自清洁声屏障光催化涂层技术主要基于纳 米级光催化材料在光照条件下产生的强氧化性自 由基,能有 效分 解有 机污染物和杀灭微生物‌。 13833648003

自清洁声屏障:光催化涂层技术的降噪与环保原理

来源:声屏障http://www.wanyahuanbao.com/ | 发布时间:2025/9/16 | 浏览次数:

   自清洁声屏障光催化涂层技术主要基于纳 米级光催化材料在光照条件下产生的强氧化性自 由基,能有 效分 解有 机污染物和杀灭微生物‌。该技术通过以下机制实现双重功效:
   ‌降噪功能‌:特殊表面结构设计可改变声波反射路径,多 维降噪声屏障降噪效果达13分贝以上‌
‌   自清洁功能‌:光催化反应分 解表面有 机物,保持涂层长期清洁‌。文章来源声屏障http://www.wanyahuanbao.com/。‌

 

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